[发明专利]一种纳米多孔二氧化锡薄膜气敏材料及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种纳米多孔二氧化锡薄膜气敏材料的制备方法,以纳米多孔金为生长模板，利用原子层沉积技术沉积二氧化锡、经过退火结晶、王水腐蚀生长模板过程后，最终得到具有纳米多孔金的双联通二氧化锡气敏薄膜。本发明制备得到的纳米多孔二氧化锡薄膜气敏材料可用于检测用于检测二氧化氮，且其最佳工作温度为300℃；并且具有超低的二氧化氮气敏检测极限和超高的气敏响应度。

主权项

1.一种纳米多孔二氧化锡薄膜气敏材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a)将13.25克拉的白金薄膜裁剪成10mm×10mm的正方形，用浓硝酸腐蚀10h，得到纳米多孔金薄膜，用去离子水反复清洗残余在表面以及孔内残余的酸后，将薄膜转移到清洗干净的石英片表面，并吹干；b)利用原子层沉积将二氧化锡沉积于纳米多孔金薄膜的表面得到包覆有二氧化锡的纳米多孔金薄膜；c)将步骤b)得到的纳米多孔金薄膜放置在带盖的刚玉槽内，在800℃温度的马弗炉通空气烧结1h，之后自然冷却至室温，得到完全结晶的二氧化锡；d)将盐酸和硝酸按体积比3:1配置好王水，将退火后的样品放置在培养皿内，在王水中浸泡0.8～1.5h，使纳米多孔金薄膜完全腐蚀干净，用去离子水反复清洗，之后用氮气枪吹干，干燥箱内保存样品；所述的原子沉积步骤包括多个沉积循环，所述的沉积循环为300次。