[发明专利]单片式湿法清洗方法有效

专利信息
申请号: 201510455538.6 申请日: 2015-07-29
公开(公告)号: CN105006424B 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 姚嫦娲 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 代理人: 吴世华,尹英
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种单片式湿法清洗方法,包括将整个晶圆固定置于旋转平台上,使晶圆的中心偏离旋转平台的中心;旋转平台和晶圆均以旋转平台的中心为旋转中心且以第一转速进行旋转;进行药液喷淋过程,机械手臂摆动,并且带动喷淋头摆动,使喷淋头以旋转平台的中心为摆动中心进行摆动,形成摆动轨迹,使药液喷淋到晶圆的整个上表面;提高旋转平台的转速到第二转速,然后,进行去离子水喷淋过程,其中,机械手臂将喷淋头置于晶圆中心上方,使喷淋头以晶圆的中心为定点进行去离子水的定点喷淋;完成去离子水喷淋过程之后,调整旋转平台的转速到第三转速,对晶圆进行干燥过程;将晶圆取出旋转平台。本发明克服了旋转的晶圆中心受力为零的缺陷。
搜索关键词: 单片 湿法 清洗 方法
【主权项】:
一种单片式湿法清洗方法,采用的单片式湿法清洗设备具有用于带动晶圆旋转的旋转平台,用于向所述晶圆上喷淋液体的喷淋头,以及与所述喷淋头连接的用于移动所述喷淋头的机械手臂,其特征在于,所述单片式湿法清洗方法包括:步骤01:将整个所述晶圆固定置于所述旋转平台上,并且使所述晶圆的中心偏离旋转平台的中心;步骤02:所述旋转平台和所述晶圆均以所述旋转平台的中心为旋转中心且以第一转速进行旋转;步骤03:进行药液喷淋过程,其中,所述机械手臂摆动,并且带动所述喷淋头摆动,使所述喷淋头以所述旋转平台的中心为摆动中心进行摆动,使药液喷淋到所述晶圆的整个上表面;步骤04:提高所述旋转平台的转速到第二转速,停止药液喷淋过程,然后,进行去离子水喷淋过程,其中,所述机械手臂将所述喷淋头置于所述晶圆中心上方,使所述喷淋头以所述晶圆的中心为定点,在晶圆和旋转平台以第二转速进行旋转过程中,对晶圆进行去离子水的定点喷淋;步骤05:完成所述去离子水喷淋过程之后,调整所述旋转平台的转速到第三转速,对所述晶圆进行干燥过程;步骤06:将所述晶圆取出所述旋转平台。
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