[发明专利]一种一维氮化硅纳米粉体及其制备方法有效
申请号: | 201510459467.7 | 申请日: | 2015-07-30 |
公开(公告)号: | CN105036097B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 梁峰;张海军;张少伟;鲁礼林;李发亮;段红娟;刘江昊 | 申请(专利权)人: | 武汉科技大学 |
主分类号: | C01B21/068 | 分类号: | C01B21/068;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 张火春 |
地址: | 430081 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种一维氮化硅纳米粉体及其制备方法。其技术方案是将90~99wt%的单质硅粉和1~10wt%的铬粉混合均匀,在压力为20~60MPa条件下压制成型;再将成型后的坯体置入管式电阻炉内,在氮气气氛中以2~10℃/min的速率升温至1200~1400℃,保温2~8小时,即得一维氮化硅纳米粉体。其中所述单质硅粉中的Si含量≥95wt%,粒径≤88μm;所述铬粉中的Cr含量≥95wt%,粒径≤10μm。本发明具有反应温度低、成本低、合成工艺简单、产物形貌易于控制和产率高的特点;所制备的一维氮化硅纳米粉体呈晶须状、直径分布均匀和长径比大。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种一维氮化硅纳米粉体的制备方法,其特征在于将90~99wt%的单质硅粉和1~10wt%的铬粉混合均匀,在压力为20~60MPa条件下压制成型;再将成型后的坯体置入管式电阻炉内,在氮气气氛中以2~10℃/min的速率升温至1200~1400℃,保温2~8小时,即得一维氮化硅纳米粉体。
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