[发明专利]一种平面型三阶梯结雪崩光电二极管及制作方法有效

专利信息
申请号: 201510460410.9 申请日: 2015-07-30
公开(公告)号: CN105070780B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 陈伟;高新江;张承;迟殿鑫;黄晓峰;崔大健;王立;樊鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙)11316 代理人: 刘佳
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明提供一种平面型三阶梯结雪崩光电二极管,包括衬底,顺序层叠于衬底上的缓冲层、吸收层、渐变层、电场控制层和帽层,部分所述帽层上设有同轴的三阶梯PN结,所述三阶梯PN结包括半径逐渐增宽而结深逐渐变浅的第三阶梯PN结、第二阶梯PN结和第一阶梯PN结,第一、第二阶梯PN结用于抑制光电二极管结边缘电场、减小有源区面积及提高器件的频率特征,所述帽层上沉积有掩膜层,掩膜层上形成有窗口,所述窗口内覆盖有P电极,所述衬底下层叠有N电极,所述N电极上形成有光入射窗口,所述光入射窗口内设有增透膜;本发明还提供一种制作方法。本发明采用三阶梯结结构,利用第三阶梯PN结减小器件的有源区尺寸,提高器件的频率特性,减小器件的隧道电流。
搜索关键词: 一种 平面 阶梯 雪崩 光电二极管 制作方法
【主权项】:
一种平面型三阶梯结雪崩光电二极管,其特征在于,包括衬底,顺序层叠于所述衬底上的缓冲层、吸收层、渐变层、电场控制层和帽层,部分所述帽层上设有同轴的三阶梯PN结,所述三阶梯PN结包括由下至上层叠的半径逐渐增宽而结深逐渐变浅的第三阶梯PN结、第二阶梯PN结和第一阶梯PN结,所述第一、第二阶梯PN结用于抑制光电二极管结边缘电场、减小有源区面积及提高器件的频率特征,所述帽层上沉积有掩膜层,所述掩膜层上形成有窗口,所述窗口内覆盖有P电极,所述衬底下层叠有N电极,所述N电极上形成有光入射窗口,所述光入射窗口内设有增透膜;阶梯PN结的结深是指从一个阶梯PN结下边缘到另一个相邻阶梯PN结下边缘的垂直距离。
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