[发明专利]一种用于网络的空间多传感器快速定位方法有效
申请号: | 201510461803.1 | 申请日: | 2015-07-31 |
公开(公告)号: | CN105137393B | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 石川;张杨;余科洋;徐忠富;朱培栋;刘文甫;王利华;薛芳侠;常文泰;邬雨蒙;何荣茂;贺正求;张雷刚 | 申请(专利权)人: | 石川 |
主分类号: | G01S5/12 | 分类号: | G01S5/12;G01S5/00 |
代理公司: | 洛阳市凯旋专利事务所41112 | 代理人: | 陆君 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及目标检测技术领域,公开的一种用于网络的空间多传感器快速定位方法,是根据多传感器网络中各探测节点的坐标位置及测距结果,选取能覆盖所有目标点位置的最小立方体区域,并进行栅格化;并将每个栅格中心点作为待选目标点,通过约束规则选取合适的待选目标点作为初始目标概位点,并以该点为中心点坐标,重新选取立方体覆盖区,迭代计算目标概位点坐标,直到立方体覆盖区的边长符合精度要求,此时得到的目标概位点即为目标位置。本发明能够应用于各类基于距离的传感器装置,完成空间目标的快速精确定位。并且快速精确定位的方法简单,计算精度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 网络 空间 传感器 快速 定位 方法 | ||
【主权项】:
一种用于网络的空间多传感器快速定位方法,根据多传感器网络中各探测节点的坐标位置及测距结果,选取能覆盖所有目标点位置的最小立方体区域,并进行栅格化;并将每个栅格中心点作为待选目标点,通过约束规则选取合适的待选目标点作为初始目标概位点,并以该点为中心点坐标,重新选取立方体覆盖区,迭代计算目标概位点坐标,直到立方体覆盖区的边长符合精度要求,此时得到的目标概位点即为目标位置,其步骤如下:步骤一:根据已知探测节点位置,选取立方体覆盖区;设有n个已知传感器探测节点,已获得n个探测节点位置和对目标点的测距结果,每个探测节点对应的可能目标位置是以此节点为中心,以到目标的测距结果为半径的球面上;选取最小的立方体覆盖区,以覆盖所有的可能目标点位置;步骤二:栅格化立方体覆盖区,若立方体覆盖区边长为L,立方体边长等分值取值为a,则立方体覆盖区可栅格化为m个小立方体,其中m=a3,每个小立方体边长为L/a;以每个小立方体的中心点作为待选目标点Tj(j=1,2…m);步骤三:获取初始目标概位点,计算每个待选目标点与所有探测节点间的距离,选取待选目标点与探测节点间距离和探测节点已测目标距离的差的平方和最小的待选目标点作为初始目标概位点;步骤四:以步骤三中获取的初始目标概位点为中心,将立方体边长减半,重新划定立方体覆盖区域,重复步骤二、三、四,迭代计算目标概位点位置,直到立方体覆盖区的边长符合精度要求,此时的目标概位点坐标即为目标点空间定位坐标;其中,所述的步骤一中选取最小的立方体覆盖区,以覆盖所有可能目标点位置的;实现方法为:设n个已知传感器探测节点的位置坐标分别为Di(xdi,ydi,zdi)(i=1,2…n),探测节点对目标点的测距结果为di(i=1,2…n),则xmax=max(xd1+d1,xd2+d2,xd3+d3,…xdn+dn)xmin=min(xd1‑d1,xd2‑d2,xd3‑d3,…xdn‑dn)ymax=max(yd1+d1,yd2+d2,yd3+d3,…ydn+dn)ymin=min(yd1‑d1,yd2‑d2,yd3‑d3,…ydn‑dn)zmax=max(zd1+d1,zd2+d2,zd3+d3,…zdn+dn)zmin=min(zd1‑d1,zd2‑d2,zd3‑d3,…zdn‑dn)然后求出立方体覆盖区的边长为:L=max(xmax‑xmin,ymax‑ymin,zmax‑zmin)以L为边长,建立一个以(xmax,ymax,zmax)为顶点,向(xmin,ymin,zmin)方向延伸的立方体覆盖区域;其中,所述的步骤三中待选目标点Tj(j=1,2…m)与探测节点间距离和探测节点已测目标距离的差的平方和为:Rsqj为第j个待选目标点与探测节点间距离和探测节点已获取目标距离的差的平方和;di为第i个探测节点获取的目标距离;Rji为第j个待选目标点到第i个探测节点的距离;取(Rsq1,Rsq2 …Rsqm)中最小值时的待选目标点作为初始目标概位点,若目标概位点与真实目标点完全重合,目标概位点到探测节点的距离与真实目标点O到探测节点的距离应相等,即Rsq=0;因此,在立方体内获取的目标概位点的Rsq应为最小,并无限逼近0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石川,未经石川许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510461803.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:通孔电镀铅锡装置
- 下一篇:一种熔盐电解用氯化物复合电解质的制备装置