[发明专利]一种有机蒸镀MASK的清洗工艺有效
| 申请号： | 201510464112.7 | 申请日： | 2015-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN105154821A | 公开（公告）日： | 2015-12-16 |
| 发明（设计）人： | 谭高杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市星火辉煌系统工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 任哲夫 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市盐田*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于OLED加工领域，具体涉及一种有机蒸镀MASK的清洗工艺。本发明所述工艺将有机蒸镀MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液体中，流动循环加热浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有异丙醇的去离子水浸泡并进行兆声清洗，最后进行去离子水冲洗。通过化学溶解和物理振动清洗的方式去除OLED蒸镀MASK上的有机工艺残留物，在清洗过程中不会影响MASK的精细结构，使得MASK可以反复使用，同时也保证了再次使用MASK的镀膜精确性能，具有极大的市场价值和应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有机 mask 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述工艺包括如下步骤：将有机蒸镀MASK框架固定在清洗架上，放入N‑甲基吡咯烷酮液体中，流动循环加热浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有异丙醇的去离子水浸泡并进行兆声清洗，最后进行去离子水冲洗。
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