[发明专利]一种母板及其制作方法有效
| 申请号： | 201510464153.6 | 申请日： | 2015-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN105097670B | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 郭建 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种母板及其制作方法，涉及显示技术领域，该母板能够改善因切割区域与基板单元区域的段差引起的光刻胶剧烈起伏，进而影响后续曝光和显影的问题。一种母板，包括基板单元区域和切割区域，该母板还包括缓冲部，所述缓冲部位于所述母板的切割区域，用于减小所述基板单元区域和所述切割区域的段差。本发明适用于母板的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 母板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种母板，包括：基板单元区域和切割区域，其特征在于，还包括：缓冲部，所述缓冲部位于所述母板的切割区域，用于减小所述基板单元区域和所述切割区域的段差；所述切割区域包括多个横向子切割区域和多个纵向子切割区域，所述横向子切割区域和所述纵向子切割区域交叉的部分形成重叠区域，所述缓冲部设置在所述重叠区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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