[发明专利]一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于太阳能级硅片的清洗剂及其制备方法。该清洗剂包括如下重量份的原料：无机碱2‑5份，表面活性剂10‑20份，腐蚀抑制剂1‑5份，络合剂1‑5份，助剂0.1‑0.5份，水加至100份。该清洗剂制备方法包括以下步骤：先将水和表面活性剂混合，在转速300‑500转/分搅拌下，多次少量的缓慢加入无机碱，继续搅拌10‑20分钟，最后加入络合剂、腐蚀抑制剂和助剂，搅拌完全溶解，即得所述的清洗剂。本发明用于太阳能级硅片的清洗剂能够有效的去除硅片表面的金属离子、各种有机污染物，对硅片损伤小，清洗泡沫少，清洗效率高。

主权项

1.一种用于太阳能级硅片的清洗剂，其特征在于，该清洗剂包括如下重量份的原料：KOH3％，脂肪醇聚氧乙烯醚5％，烷基酚聚氧乙烯醚12％，三乙醇胺2％，乙二胺1％，二乙烯三胺五乙酸1％，乙二胺四乙酸二钠1％，异丙醇0.3％，余量为纯水。