[发明专利]处理器模块控制的缓冲器的工作方法

摘要

本发明涉及一种处理器模块控制的缓冲器的工作方法，包括：呈圆柱形，且用于填充缓冲介质的缸体，在该缸体的开口端设有缸盖，并将开口封闭，所述缸盖的中心轴线处设有轴向延伸的中心通孔；由一活塞杆穿过该中心通孔，且该活塞杆顶端设有活塞体组件，该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动；所述活塞体组件的右端面上设有传感器组，该传感器组包括适于检测介质温度的温度传感器，该温度传感器与一处理器模块相连；所述缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块，所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度。

主权项

一种带有温度检测装置的缓冲器的工作方法，其特征在于，所述缓冲器包括：呈圆柱形，且用于填充缓冲介质的缸体，在该缸体的开口端密封设有缸盖，所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆，该活塞杆的右端设有活塞体组件，该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动；所述活塞体组件的右端面上设有传感器组，该传感器组包括适于检测介质温度的温度传感器，该温度传感器与一处理器模块相连；所述缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块；所述两级缓冲器的工作方法包括：所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度；在缓冲工作时，所述缸体的右端部作为与滑块相碰撞的接触面，该滑块为磁性滑块；所述缸体的侧壁中绕设有电磁线圈，所述传感器组包括用于检测介质压力的压力传感器，该压力传感器与所述处理器模块相连；当所述滑块撞击所述缸体的右端部时，所述处理器模块适于根据介质压力值，控制一直流电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的直流电流，使所述电磁线圈产生相应的磁场，以吸合所述滑块；直至所述处理器模块测得介质压力值为均衡值时，控制所述直流电流驱动模块产生反向输出直流电流，以释放所述滑块；所述活塞体组件与所述缸体的内壁活动密封配合，且该活塞体组件包括：同轴设置的左、右活塞体，该左、右活塞体上对称设有若干个同心圆分布的、用于介质轴向流动的通孔，左、右活塞体的相邻端面之间的密封配合，以使作活塞运动时，介质仅通过所述左、右活塞体上的各通孔实现往返流动；所述左活塞体内设有用于放置电机的空腔，该电机由所述处理器模块控制，其转子连接于所述右活塞体，用于根据介质压力带动该右活塞体旋转，以控制左、右活塞体上的各通孔的相对位置关系，进而控制介质流量。