[发明专利]金刚石保护层结构的柔性衬底薄膜太阳能电池及制备方法有效

专利信息
申请号: 201510475317.5 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105140339B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 张东 申请(专利权)人: 沈阳工程学院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0304
代理公司: 沈阳铭扬联创知识产权代理事务所(普通合伙)21241 代理人: 屈芳
地址: 110136 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及金刚石保护层结构的柔性衬底的薄膜太阳能电池制备方法,聚酰亚胺柔性衬底上依沉积金刚石绝缘保护薄膜、ITO透明导电薄膜、P型InxGa1‑xN量子阱本征晶体薄膜、I型InxGa1‑xN量子阱本征晶体薄膜、N型InxGa1‑xN量子阱本征晶体薄膜、ITO透明导电薄膜以及金属Ag电极,此柔性太阳能电池最大的特点是重量轻、携带方便、不易粉碎,其重量比功率和体积比功率较其它种类的电池高几个数量级。具有很好的柔性,改变了I层材料和结构,引入具有带隙可调的InxGa1‑xN量子阱本征晶体薄膜作为I层,InxGa1‑xN材料具有稳定好,耐腐蚀且具有隧穿势垒以及低的光损系数,提高了电池的转化效率。采用金刚石作为保护绝缘层,抗腐蚀性进一步增强了,大大延长了薄膜太阳能电池的使用寿命。
搜索关键词: 金刚石 保护层 结构 柔性 衬底 薄膜 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种金刚石保护层结构的柔性衬底薄膜太阳能电池制备方法,其特征在于,在聚酰亚胺柔性衬底上依沉积金刚石绝缘保护薄膜、ITO透明导电薄膜、P型InxGa1‑xN量子阱晶体薄膜、I型InyGa1‑yN量子阱本征晶体薄膜、N型InzGa1‑zN量子阱晶体薄膜、ITO透明导电薄膜以及金属Ag电极,其中x,y,z的取值为0~1;在聚酰亚胺柔性衬底上依沉积金刚石绝缘保护薄膜,将聚酰亚胺柔性衬底先用离子水超声波清洗5分钟后,用氮气吹干送入磁控溅射反应室,在8.0×10‑4Pa真空的条件下,沉积制备金刚石保护薄膜,其工艺参数条件是:氢气与甲烷作为混合气体反应源,其氢气与甲烷流量比10:1,衬底温度为100℃~500℃,沉积时间为30分钟至50分钟;采用磁控溅射在聚酰亚胺柔性衬底/金刚石绝缘保护薄膜上制备ITO基透明导电薄膜;其工艺参数条件是:氧气作为气体反应源,其氧气流量为10~20sccm,反应溅射铟金属靶材的纯度为99.99%,聚酰亚胺柔性衬底/金刚石绝缘保护薄膜结构衬底温度为50℃~150℃,沉积时间为3~10分钟。
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