[发明专利]一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510477157.8 申请日: 2015-08-06
公开(公告)号: CN105185901B 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 李岚;赵相国;张旭光;徐建萍;张晓松;刘巍嵩 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司12002 代理人: 侯力
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件,包括顶电极、底电极和位于顶、底电极之间的活性层;所述的顶电极为Al,厚度为80nm;底电极为ITO导电玻璃;活性层为质量比为11的二硫化钼和聚偏氟乙烯的混合物(MoS2‑PVDF),厚度为30nm。本发明的优点和积极效果是该器件的活性层通过悬涂法获得,避免了CVD方法的复杂工艺以及高额的成本,并且聚偏氟乙烯促进了二硫化钼在乙醇中的分散性,效率高且制作成本低;该器件开关比在103以上,开关电压2V,器件性能优异。
搜索关键词: 一种 基于 二硫化钼 复合 存储 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件的制备方法,所述复合阻变存储器件包括顶电极、底电极和位于顶、底电极之间的活性层;所述的顶电极为Al,厚度为80nm;底电极为ITO导电玻璃;活性层为质量比为1:1的二硫化钼和聚偏氟乙烯的混合物(MoS2‑PVDF),厚度为30nm;其特征在于制备方法包括以下步骤:1)采用3cm×3cm的ITO导电玻璃作为复合阻变存储器件的基底,将ITO导电玻璃中心1cm×1cm区域保留,其余部分用浓度为10wt%的盐酸溶液腐蚀10min,然后依次用洗涤灵、去离子水、丙酮和异丙醇溶液在超声清洗机中清洗;2)用匀胶机在整块ITO导电玻璃上旋涂活性层溶液,并在真空度‑0.7Bar、温度为80℃下干燥,匀胶机转速为2000rpm;3)重复步骤2)3次;4)通过热蒸发法在活性层上制备铝电极;所述活性层溶液制备方法,步骤如下:步骤1、将二硫化钼均匀分散在无水乙醇溶液中,室温下,在超声机内超声3h,得到二硫化钼分散液,二硫化钼与无水乙醇溶液的用量比为5mg:5mL;步骤2、将聚偏氟乙烯(PVDF)溶于无水乙醇溶液中,磁力搅拌4h,得到聚偏氟乙烯‑乙醇溶液,聚偏氟乙烯与无水乙醇溶液的用量比为10mg:10mL;步骤3、将聚偏氟乙烯‑乙醇溶液以25滴/min的滴加速率逐滴加入二硫化钼分散液中,待全部滴入后,8000rpm下离心5min,收集上层清液,重复离心两次,合并上层清液;步骤4、将上述上层清液置于真空度‑0.8Bar环境内,放置24h,制得活性层溶液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津理工大学,未经天津理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510477157.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top