[发明专利]一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件及其制备方法有效
申请号: | 201510477157.8 | 申请日: | 2015-08-06 |
公开(公告)号: | CN105185901B | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 李岚;赵相国;张旭光;徐建萍;张晓松;刘巍嵩 | 申请(专利权)人: | 天津理工大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300384 天津市西青*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件,包括顶电极、底电极和位于顶、底电极之间的活性层;所述的顶电极为Al,厚度为80nm;底电极为ITO导电玻璃;活性层为质量比为11的二硫化钼和聚偏氟乙烯的混合物(MoS2‑PVDF),厚度为30nm。本发明的优点和积极效果是该器件的活性层通过悬涂法获得,避免了CVD方法的复杂工艺以及高额的成本,并且聚偏氟乙烯促进了二硫化钼在乙醇中的分散性,效率高且制作成本低;该器件开关比在103以上,开关电压2V,器件性能优异。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 二硫化钼 复合 存储 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于二硫化钼的复合阻变存储器件的制备方法,所述复合阻变存储器件包括顶电极、底电极和位于顶、底电极之间的活性层;所述的顶电极为Al,厚度为80nm;底电极为ITO导电玻璃;活性层为质量比为1:1的二硫化钼和聚偏氟乙烯的混合物(MoS2‑PVDF),厚度为30nm;其特征在于制备方法包括以下步骤:1)采用3cm×3cm的ITO导电玻璃作为复合阻变存储器件的基底,将ITO导电玻璃中心1cm×1cm区域保留,其余部分用浓度为10wt%的盐酸溶液腐蚀10min,然后依次用洗涤灵、去离子水、丙酮和异丙醇溶液在超声清洗机中清洗;2)用匀胶机在整块ITO导电玻璃上旋涂活性层溶液,并在真空度‑0.7Bar、温度为80℃下干燥,匀胶机转速为2000rpm;3)重复步骤2)3次;4)通过热蒸发法在活性层上制备铝电极;所述活性层溶液制备方法,步骤如下:步骤1、将二硫化钼均匀分散在无水乙醇溶液中,室温下,在超声机内超声3h,得到二硫化钼分散液,二硫化钼与无水乙醇溶液的用量比为5mg:5mL;步骤2、将聚偏氟乙烯(PVDF)溶于无水乙醇溶液中,磁力搅拌4h,得到聚偏氟乙烯‑乙醇溶液,聚偏氟乙烯与无水乙醇溶液的用量比为10mg:10mL;步骤3、将聚偏氟乙烯‑乙醇溶液以25滴/min的滴加速率逐滴加入二硫化钼分散液中,待全部滴入后,8000rpm下离心5min,收集上层清液,重复离心两次,合并上层清液;步骤4、将上述上层清液置于真空度‑0.8Bar环境内,放置24h,制得活性层溶液。
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