[发明专利]一种石墨烯/聚吡咯电磁屏蔽膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种石墨烯/聚吡咯电磁屏蔽膜及其制备方法。该石墨烯/聚吡咯电磁屏蔽膜，由以下方法制备而成将吡咯溶液加入氧化石墨烯分散液中，升温至90～95℃反应8～24h，得混合物；其中，吡咯与氧化石墨烯的质量比为955～7030；上述反应完成后，冷却至室温，加入三氯化铁，反应4～8h，抽滤，洗涤，干燥，即得。本发明提供的石墨烯/聚吡咯电磁屏蔽膜，吡咯的聚合分两步完成，首先以吡咯和氧化石墨烯的反应实现了氧化石墨烯的还原和吡咯的聚合，随后加入三氯化铁继续反应，抽滤，使复合材料具有“brick and mortar”结构，石墨烯片层在基体中高度有序，均匀分散，实现导电性能的大幅提高。

主权项

一种石墨烯/聚吡咯电磁屏蔽膜，其特征在于：由包括以下步骤的方法制备而成：1）将氧化石墨与水混合，超声分散，得到氧化石墨烯分散液；将吡咯溶于乙醇和水混合液中，得到吡咯溶液；2）将步骤1）所得吡咯溶液加入步骤1）所得氧化石墨烯分散液中，升温至90~95℃反应8~24h，得混合物；其中，吡咯与氧化石墨烯的质量比为95:5~70:30；3）将步骤2）所得混合物冷却至室温，加入三氯化铁，反应4~8h，抽滤得到膜层，干燥，即得；步骤3）中，三氯化铁的加入量与步骤2）吡咯的质量比为0.8~1.1:1；步骤3）中，所述抽滤所用的抽滤膜孔径为0.22μm。