[发明专利]一种融合数据预处理的垂测电离图反演方法有效

专利信息
申请号: 201510484383.9 申请日: 2015-08-10
公开(公告)号: CN105160156B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 鲁转侠;柳文;蔚娜;杨龙泉;冯静;郭文玲;师燕娥 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十二研究所
主分类号: G06F19/00 分类号: G06F19/00
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司11429 代理人: 孙静雅
地址: 266107 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种融合数据预处理的垂测电离图反演方法,其包括以下步骤步骤A、构建多项式电离层模型;步骤B、基于建立的电离层模型,结合实测虚高数据,在剖面连续光滑的约束条件下,通过搜索、迭代的方法获得多项式电离层模型的系数,从而对缺失实测数据进行外推补偿预处理;步骤C、设定频率f1、f2对应的实高h1、h2,基于连续的预处理虚高数据,计算平均群折射指数和交叠多项式系数,从而计算频率fii=3,4,5,…,n‑1的实高;步骤D、计算最大频率fn对应的实高hn;步骤E、计算电离层峰高。
搜索关键词: 一种 融合 数据 预处理 电离 反演 方法
【主权项】:
一种融合数据预处理的垂测电离图反演方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A、构建多项式电离层模型;步骤B、基于建立的电离层模型,结合实测虚高数据,在剖面连续光滑的约束条件下,通过搜索、迭代的方法获得多项式电离层模型的系数,从而对缺失实测数据进行外推补偿预处理;步骤C、设定频率f1、f2对应的实高h1、h2,基于连续的预处理虚高数据,计算平均群折射指数和交叠多项式系数,从而计算频率fi,i=3,4,5,…,n‑1的实高;步骤D、计算最大频率fn对应的实高hn;步骤E、计算电离层峰高。
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