[发明专利]一种具有蓝宝石基片的光谱反射计有效
| 申请号： | 201510487664.X | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105047590B | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 吴人杰;彭国发;刘东升;吕煜坤;朱骏;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，蓝宝石薄片的下表面具有预设弧度的凹面，增加其下表面与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上。本发明通过在蓝宝石薄片的下表面增加一具有预设弧度的凹面，从而使蓝宝石薄片的下表面与聚合物的接触面积更大，使更多的聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提高了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 蓝宝石 光谱 反射 | ||
【主权项】：
一种具有蓝宝石基片的光谱反射计，用于检测硅片的刻蚀深度，其特征在于，所述光谱反射计包括蓝宝石基片，所述蓝宝石基片用于对激光产生衍射干涉，并接受反射回来的激光，所述蓝宝石基片的下表面具有预设弧度的凹面，增加其下表面与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于所述蓝宝石基片的凹面上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
