[发明专利]内埋式被动元件的量产方法有效

专利信息
申请号: 201510487786.9 申请日: 2015-08-11
公开(公告)号: CN106298158B 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 萧铭河;李邦彦;曾彦豪 申请(专利权)人: 威华微机电股份有限公司
主分类号: H01F17/04 分类号: H01F17/04
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种内埋式被动元件,包含一主体及至少一膜层结构。该主体包括一轮廓面及至少一凹槽。该轮廓面具有相反设置的一第一面区及一第二面区,该凹槽自该第一面区与第二面区两者其中一者朝该第一面区与第二面区两者其中另一者凹陷,且该主体为一体。该膜层结构局部地填置于该凹槽中,且包括一第一导电层,并至少包括一磁性层或一介电层。通过该膜层结构的该第一导电层与该磁性层两者间的电性作用,或通过该第一导电层与该介电层两者间的电性作用,以至少达成电感或电容的特性。本发明还提供一种前述被动元件的量产方法。该主体因呈一体结构而强度高,且该凹槽利于填置足够量的膜层结构(如该磁性层)以在节省元件空间的前提下确保元件本身应有的性能。
搜索关键词: 内埋式 被动 元件 及其 量产 方法
【主权项】:
1.一种内埋式被动元件的量产方法,其特征在于:所述的内埋式被动元件的量产方法包含:一步骤(a),是蚀刻一基板以令该基板成形出一预形体阵列,该预形体阵列与该基板的一周缘连接,且各预形体沿一第一方向依序具有彼此相连的一基座、至少一连接部,及一主体,各主体包括一轮廓面及至少一凹槽,各轮廓面具有相反设置的一第一面区及一第二面区,各凹槽是自各自所对应的该轮廓面的该第一面区与该第二面区两者其中一者朝该第一面区与该第二面区两者其中另一者凹陷,且各主体为一体,该预形体阵列中的所述主体是沿该第一方向或沿一与该第一方向夹一预定角度的第二方向彼此间隔排列:一步骤(b)是在各凹槽处填置至少一膜层结构,各膜层结构包括一第一导电层,并至少包括一磁性层及一介电层两者其中一者,通过各膜层结构的该第一导电层与该磁性层两者间的电性作用,或通过各膜层结构的该第一导电层与该介电层两者间的电性作用,以至少达成电感及电容两者其中一者的特性;及一步骤(c)是于该步骤(b)后,于所述连接部处由上而下或由下而上地分别施予一外力,令各主体自各连接部脱离以量产出多个内埋式被动元件。
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