[发明专利]等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法

摘要

本发明提供了一种等离子刻蚀装置及等离子体刻蚀方法，通过在刻蚀腔室外的排气管道上安装样品采集通道，可以将排放气体部分收集到样品离子化腔，通过样品离子化腔将排放气体中的物质进行质量分离，从而得到待检测物质；待检测物质经加速腔加速进入样品检测设备，通过样品检测设备对待检测物质进行元素种类或元素含量检测，从而判断出刻蚀过程是否达到终点；待检测物质还可以通过样品采集通道的出口排出到排气管道内，进而被排出排气管道；因此，本发明能够在刻蚀面积很小的时候进行高精度的终点检测。

主权项

一种等离子体刻蚀装置，包括：刻蚀腔、位于刻蚀腔体上的进气管道和排气管道、位于刻蚀腔室内的上电极、与上电极相对的下电极、以及位于下电极上的晶圆承载台，其特征在于，位于所述刻蚀腔室外部的所述排气管道部分具有：样品采集通道，具有进口和出口，所述进口和所述出口均与所述排气管道相连通；样品离子化腔，与所述样品采集通道的进口相连通，用于将通过进口进入到所述样品离子化腔的气体中的物质进行质量分离，得到待检测物质；加速腔，与所述样品离子化腔相连通，用于对所述待检测物质加速，使所述待检测物质进入到样品检测设备；样品检测设备，与所述加速腔相连通，并与所述样品采集通道的出口相连通，对经加速进入的所述待检测物质进行元素种类或元素含量检测，以判断刻蚀过程是否达到终点；所述样品检测设备检测完毕后，所述待检测物质通过所述样品采集通道的出口进入到所述排气管道中，从而被排出所述排气管道。