[发明专利]一种菲林结构在审
| 申请号： | 201510489173.9 | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105182682A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 王佐;朱拓;王淑怡;任继文 | 申请（专利权）人： | 深圳崇达多层线路板有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新桥横岗下工*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种菲林结构，所述菲林包括外部板、内部板和设置于所述外部板与所述内部板之间的靶标，在所述内部板相邻的两个板边各设置两个开槽，所述靶标间设置有方向指示标记。当菲林需测试涨缩或因环境温度或相对湿度发生涨缩变化时，仅需测量每边两个开槽的间距变化即可确定菲林的涨缩程度，测量方法简便、计算简单，提高了菲林的检测效率。同时，所述方向指示标记，可用于区分菲林的正反，防止菲林在曝光过程中放反，造成线路曝光错误，提高了电路板的生产效率，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 | ||
【主权项】：
一种菲林结构，其特征在于，所述菲林包括外部板、内部板和设置于所述外部板与所述内部板之间的靶标，在所述内部板相邻的两个板边各设置两个开槽。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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