[发明专利]一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体有效
| 申请号： | 201510489599.4 | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105004384B | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 徐贺;李培鹏;于洪鹏;宗宝超;马耀文;王鹏;黄鑫亮 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工程大学 |
| 主分类号： | G01F1/32 | 分类号： | G01F1/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，包括设置在主管道里的发生体本体，发生体本体包括半圆柱体和带凹面的三角柱形体，半圆柱体的弧面一侧为迎流面，弧面中部设置大V型槽，大V型槽的两侧分别设置小V型槽，大V型槽与小V型槽的开口角度相同，大V型槽的开口深度大于小V型槽的开口深度，三角柱形体设置在半圆柱体的平面一侧，三角柱形体的凹面背向半圆柱体设置，半圆柱体和三角柱形体之间设置狭缝。本发明相对于现有的漩涡发生体具有更低的迎面阻力，可以产生更高的旋涡发生频率，且使漩涡分离更稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 仿生 射流 原理 漩涡 发生 | ||
【主权项】：
一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，其特征是：包括设置在主管道里的发生体本体，发生体本体包括半圆柱体和带凹面的三角柱形体，半圆柱体的弧面一侧为迎流面，弧面中部设置大V型槽，大V型槽的两侧分别设置小V型槽，大V型槽与小V型槽的开口角度相同，大V型槽的开口深度大于小V型槽的开口深度，三角柱形体设置在半圆柱体的平面一侧，三角柱形体的凹面背向半圆柱体设置，半圆柱体和三角柱形体之间设置狭缝。
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