[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510490074.2 申请日: 2015-08-11
公开(公告)号: CN105374825B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 李起洪;皮昇浩;白知娟 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11565 分类号: H01L27/11565;H01L27/11573;H01L27/1157;H01L27/11582;H01L29/06;H01L29/45;H01L21/336;H01L21/223;H01L21/285;H01L21/768;H01L21/762
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体器件,可以包括第一源极层、位于第一源极层之上的第一绝缘层以及位于第一绝缘层之上的第一堆叠结构。半导体器件可以包括穿过第一堆叠结构和第一绝缘层的第一沟道层。半导体器件可以包括第二源极层,第二源极层包括插入在第一源极层和第一绝缘层之间的第一区域以及插入在第一沟道层和第一绝缘层之间的第二区域。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一源极层;第一绝缘层,位于第一源极层之上;第一堆叠结构,位于第一绝缘层之上;第一沟道层,穿过第一堆叠结构和第一绝缘层;以及第二源极层,包括设置在第一源极层和第一绝缘层之间的第一区域以及设置在第一沟道层和第一绝缘层之间的第二区域。
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