[发明专利]光学临近修正中的卷积加速方法有效
| 申请号： | 201510490475.8 | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105069232B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 金晓亮;钟政;袁春雨 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学临近修正中的卷积加速方法，包括：模型采样步骤：对模型进行采样，在采样到的格点处计算卷积，而且保持卷积值；版图扫描步骤：执行版图扫描，并建立顶点坐标索引；仿真点信息获取步骤：利用顶点坐标索引获取仿真点信息；插值计算步骤：利用仿真点信息获取步骤获取的仿真点信息以及模型采样步骤保持的卷积值，执行仿真点卷积值的插值计算。 | ||
| 搜索关键词： | 卷积 点信息 光学临近修正 采样步骤 插值计算 顶点坐标 采样 计算卷积 扫描步骤 索引获取 格点 索引 扫描 | ||
【主权项】：
1.一种光学临近修正中的卷积加速方法，其特征在于包括：模型采样步骤：对模型进行采样，在采样到的格点处计算卷积，而且保持卷积值；版图扫描步骤：执行版图扫描，并建立顶点坐标索引；仿真点信息获取步骤：利用顶点坐标索引获取仿真点信息；仿真点信息获取步骤包括：根据工艺模型中的光学影响距离从顶点坐标索引中获得仿真点的所有临近顶点；在顶点坐标索引中加入由于边界分割引入的新的顶点；对所有顶点做矩阵变换，换算与仿真点的相对距离；插值计算步骤：利用仿真点信息获取步骤获取的仿真点信息以及模型采样步骤保持的卷积值，执行仿真点卷积值的插值计算。
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