[发明专利]多光束干涉光刻辅助曝光装置有效
| 申请号： | 201510491702.9 | 申请日： | 2015-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN104991426B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 张锦;马丽娜;蒋世磊;孙国斌;杭凌侠;弥谦 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，包括底座、光阑吸附底座、辅助曝光光阑、基片旋转台，所述光阑吸附底座、基片旋转台设置在底座上，所述辅助曝光光阑设置在光阑吸附底座上，所述辅助曝光光阑上设置有开孔，所述基片旋转台上设置有第一读数指针，并且所述基片旋转台靠近光阑吸附底座的侧面设置有基片吸盘，所述基片吸盘中心设置有抽气孔。本发明结构简单合理，便于基片安装调整，能够实现基片不同位置的单、多次曝光，提高多次曝光的重合度，调整无需碰触基片，减少基片污损概率，辅助曝光光阑更换方便，适用于不同的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 干涉 光刻 辅助 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，其特征在于，该装置包括底座（1）、光阑吸附底座（2）、辅助曝光光阑（3）、基片旋转台（9）；所述光阑吸附底座（2）、基片旋转台（9）设置在底座（1）上，所述辅助曝光光阑（3）设置在光阑吸附底座（2）上，所述辅助曝光光阑（3）上设置有开孔（4），所述基片旋转台（9）上设置有第一读数指针（5），并且所述基片旋转台（9）靠近光阑吸附底座（2）的侧面设置有基片吸盘（7），所述基片吸盘（7）中心设置有抽气孔（8）；所述基片旋转台（9）上设置有第一锁紧螺钉（6）；所述光阑吸附底座（2）、基片旋转台（9）下部的侧面分别设置有光阑吸附底座锁紧螺钉（11）、旋转台锁紧螺钉（10）；所述底座（1）包括升降台（12）、二维平移导轨（13），所述升降台（12）的下平台的侧边垂直设置有刻度立柱（17），所述升降台（12）的上平台的侧边水平设置有第二读数指针（16），所述二维平移导轨（13）设置在所述升降台（12）的上平台上，所述二维平移导轨（13）位于光阑吸附底座（2）、基片旋转台（9）的下方。
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