[发明专利]铝塑无胶复合用铝箔及其制备方法有效
| 申请号： | 201510495250.1 | 申请日： | 2015-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN105058919B | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 袁志庆;陆国良;梁锦明;王梦蕾 | 申请（专利权）人： | 东莞市泰和塑胶制品有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/08 | 分类号： | B32B15/08;B32B3/30 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人： | 赵洪,黄丽 |
| 地址： | 523542 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铝塑无胶复合用铝箔及其制备方法。该铝塑无胶复合用铝箔的表面结构为纳米柱阵列结构，纳米柱的高度为0.5～3微米，直径为80～300纳米，纳米柱之间的间距为100～2000纳米。制备方法包括（1）先在铝箔表面涂布光刻胶，然后覆盖纳米孔阵列掩模；（2）将覆盖有掩模的铝箔在紫外光下进行曝光和显影，然后用酸液对铝箔表面进行腐蚀，再去除铝箔表面的光刻胶，便得到铝塑无胶复合用铝箔。本发明制备的铝塑无胶复合用铝箔初粘力强、剥离强度大、与塑料薄膜复合时无需任何胶粘剂便可实现较好的复合。 | ||
| 搜索关键词： | 铝塑无胶 复合 铝箔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种铝塑无胶复合用铝箔的制备方法，包括以下步骤：（1）先在铝箔表面涂布光刻胶，然后在所述光刻胶上覆盖纳米孔阵列掩模，所述纳米孔阵列掩模中纳米孔的孔径为80纳米～300纳米，孔深度为0.5微米～3微米，孔间距为100纳米～2000纳米；（2）将覆盖有所述纳米孔阵列掩模的铝箔在紫外光下进行曝光和显影，使所述铝箔表面形成纳米柱阵列，然后用酸液对铝箔表面进行腐蚀，再去除铝箔表面的光刻胶，经清洗后，得到表面结构为纳米柱阵列结构的铝塑无胶复合用铝箔；所述步骤（2）中，所述曝光的时间为0.5h～1h，所述显影的时间为0.5h～1.5h；所述步骤（2）中，所述酸液腐蚀的时间为5分钟～30分钟。
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