[发明专利]增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的溅射靶材及制造方法在审

专利信息
申请号: 201510504552.0 申请日: 2015-08-17
公开(公告)号: CN105058923A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 温艳玲;黄小军;诸斌;庄志杰 申请(专利权)人: 基迈克材料科技(苏州)有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;C23C14/34
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 郭春远
地址: 215214 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的靶材及其制备方法,靶材的主要成分是锆基材料,靶材形状和规格不受限制,可以制成旋转靶材和平面靶材,旋转靶材用等冷喷涂和等离子喷涂工艺制备,平面靶材用粉末冶金工艺制备靶块,再拼接绑定成大尺寸靶材;靶材结构致密、成分均匀、导电性好;密度为(5.3~5.9)g/cm3,相对密度均>90%。该靶材具有良好的溅射性能,弧光稳定,溅镀速率为(0.5~1.0)nm*m/min,镀制的锆基膜层作为保护膜,和相邻膜层之间有良好的结合力,具有良好的耐磨性和耐候性,玻璃镀膜后不需要膜面保护,可长期储存,便于异地深加工,并有效防止镀膜玻璃在后续深加工过程中划伤报废,合片前不需边部除膜。
搜索关键词: 增强 镀膜 玻璃 耐磨 腐蚀 性能 溅射 制造 方法
【主权项】:
一种增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的溅射靶材,其特征在于,靶材的主要成分是锆基材料,靶材结构致密、成分均匀、导电性好、无裂纹;制成旋转靶材或平面靶材,靶材密度为(5.3~5.9)g/cm3;该靶材溅镀速率为(0.5~1.0)nm*m/min,镀制的锆基膜层作为保护膜,替代玻璃镀膜后膜面保护或贴膜保护,钢化过程不氧化,玻璃合片前不除膜。
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