[发明专利]具有AlGaN导电层的发光二极管外延结构及其制法在审
申请号: | 201510504606.3 | 申请日: | 2015-08-15 |
公开(公告)号: | CN105047776A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 徐明升;周泉斌;王洪 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/06;H01L33/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开具有AlGaN导电层的发光二极管外延结构及其制法。发光二极管外延结构包括衬底、GaN缓冲层、N型GaN导电层、多量子阱有源区和P型AlGaN导电层。P型导电层为含铝的AlGaN材料,且AlGaN层中的Al组分沿生长方向线性递增。本发明的P型AlGaN导电层可以避免在P型AlGaN电子阻挡层和P型GaN导电层引起的阻挡空穴注入多量子阱有源区的势垒,P型AlGaN导电层中的Al组分沿生长方向线性递增,可以减少极化电荷密度,降低量子阱的极化电场强度,减少能带弯曲,增强P型AlGaN导电层对电子溢出阻挡效果,并减弱对空穴注入的阻挡。 | ||
搜索关键词: | 具有 algan 导电 发光二极管 外延 结构 及其 制法 | ||
【主权项】:
一种具有AlGaN导电层的发光二极管外延结构,其从下至上依次包括衬底、GaN缓冲层、N型GaN导电层、多量子阱有源区和P型导电层,其特征是所述P型导电层为含铝的AlGaN材料即P型AlGaN导电层,且P型AlGaN导电层中的Al组分沿生长方向线性递增。
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