[发明专利]等离子体清洗设备在审
| 申请号： | 201510505460.4 | 申请日： | 2015-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN105080922A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 魏钰;袁广才;王东方 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/04 | 分类号： | B08B11/04;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体清洗设备。所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置。上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种等离子体清洗设备，其特征在于，包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置。
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