[发明专利]三维存储器有效

专利信息
申请号: 201510506194.7 申请日: 2015-08-18
公开(公告)号: CN106469732B 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 李致维;程政宪;古绍泓;吕文彬 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种三维存储器,具有存储单元叠层结构。存储单元叠层结构,由多个存储单元阵列结构与多个绝缘层交错叠层而成,各存储单元阵列结构具有字线、有源层、复合层与源极/漏极区。字线、有源层与复合层在Y方向延伸。有源层设置于相邻的字线之间。复合层设置于相邻的字线与有源层之间,各复合层由有源层起依序包括第一介电层、电荷储存层与第二介电层。源极/漏极区,等间隔设置于有源层中。相邻的两个所述源极/漏极区、于两个源极/漏极区之间的有源层、以及于有源层上的第一介电层、电荷储存层、第二介电层与字线,共同构成存储单元。
搜索关键词: 三维 存储器
【主权项】:
1.一种三维存储器,包括:存储单元叠层结构,由多个存储单元阵列结构与多个绝缘层交错叠层而成,各所述存储单元阵列结构包括:多个字线,在Y方向延伸;多个有源层,在所述Y方向延伸,所述有源层设置于相邻的所述字线之间;多个复合层,在所述Y方向延伸,设置于相邻的所述字线与所述有源层之间,各所述复合层由所述有源层起依序包括第一介电层、电荷储存层与第二介电层;以及多个源极/漏极区,等间隔设置于所述有源层中,其中相邻的两个所述源极/漏极区、于两个所述源极/漏极区之间的有源层、以及于所述有源层上的所述第一介电层、所述电荷储存层、所述第二介电层与所述字线,共同构成存储单元。
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