[发明专利]基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法有效
| 申请号： | 201510507141.7 | 申请日： | 2015-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN106466802B | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 | 申请（专利权）人： | 昆山纳诺新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/00 | 分类号： | B24B31/00;B24B31/116;B24B31/12;B24B31/14;B24B41/06;B24B49/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 金光军 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本发明藉此可对具有三维形状的工件抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 牛顿 流体 抛光 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于非牛顿流体的抛光系统，其包含：抛光工具装置，配置以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且该非牛顿流体中具有磨料；非牛顿流体辅助装置，配置以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光；以及控制装置，配置以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移；其中，当非牛顿流体辅助装置运作时，非牛顿流体的黏度增加，以具有近似半固体性质，而当非牛顿流体辅助装置未运作时，非牛顿流体迅速恢复为流动状态；其中，根据工件选择磨料，并配置由玉米、淀粉、葡苷聚糖、纤维素之一或其组合的可生物降解的材质所制成非牛顿流体，且非牛顿流体的表观黏度为20kPa至100kPa；其中，抛光工具装置包含主轴及夹具，该主轴具有多个位移自由度，该夹具可自转地连接于主轴，该夹具配置以固定工件，控制装置配置以控制主轴的转速、位移及夹具的转速、角度；其中，工件除随着主轴一起运动外，也随着夹具作行星式运动。
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