[发明专利]基于c面蓝宝石衬底上N面黄光LED结构及其制作方法有效
申请号: | 201510510551.7 | 申请日: | 2015-08-18 |
公开(公告)号: | CN105098017B | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 许晟瑞;郝跃;任泽阳;张进成;李培咸;姜腾;蒋仁渊;牛牧童 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心61205 | 代理人: | 王品华,朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种基于c面蓝宝石衬底上N面黄光LED材料及其制作方法。其生长步骤是1)对c面蓝宝石进行热处理;2)在热处理后衬底上生长厚度为10‑200nm的低温成核层;3)在成核层上生长厚度为0.2‑100μm,Si掺杂浓度为5×1017cm‑3~5×1019cm‑3,C掺杂浓度为1×1017cm‑3~4×1019cm‑3的高温n型GaN有源层;4)在有源层上生长厚度为5‑200nm的AlGaN阻挡层;5)在阻挡层上生长厚度为0.01‑10μm,Mg掺杂浓度为1×1017cm‑3~5×1019cm‑3的高温p型GaN层。本发明工艺简单,成本低,可用于制作N面GaN黄光发光二极管。 | ||
搜索关键词: | 基于 蓝宝石 衬底 面黄光 led 材料 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种基于c面蓝宝石衬底上N面黄光LED结构,自上而下分别为p型GaN层,AlGaN阻挡层,有源层,成核层和c面蓝宝石衬底,其特征在于有源区使用C掺杂和Si掺杂的n型N面GaN层,以在GaN中引入C的深能级,为发黄光的电子、空穴提供复合平台。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510510551.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光装置
- 下一篇:半导体层表面粗化方法及具有表面粗化的LED结构形成方法