[发明专利]压印光刻法的矩形基材和制备方法有效
| 申请号： | 201510510609.8 | 申请日： | 2015-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN105372933B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 冈藤大雄;山崎裕之;安藤雅郎;竹内正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 杜丽利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过提供具有研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材，和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于一个侧面，和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动，由此抛光该基材的该侧面，从而制备矩形基材。在压印光刻法中，该矩形基材能够以高精度控制压缩和图案形状，并由此能将微细特征尺寸的复杂图案转印至接收体。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 矩形 基材 制备 方法 | ||
【主权项】：
制备用于压印光刻法的矩形基材的方法，包括以下步骤：提供具有经研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材，和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于该基材的一个侧面，和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动，以由此抛光该基材的该侧面。
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