[发明专利]有机EL元件密封膜的形成方法

摘要

本发明提供有机EL元件密封膜的形成方法，解决形成叠层有无机膜和有机膜的叠层膜时使用硬质掩模有选择地成膜有机膜所导致的问题。该有机EL元件密封膜的形成方法在形成有多个有机EL元件(2)的基板(1)上，以覆盖与有机EL元件对应的区域的方式形成叠层有无机膜(11)和有机膜(12)的构造的密封膜，包括：在基板(1)的整个面将无机膜(11)和有机膜(12)交替一次以上地成膜而形成叠层膜(13)的步骤；通过干蚀刻将叠层膜(13)中与有机EL元件对应的区域以外的部分除去的步骤；和以遮蔽叠层膜(13)的有机膜(12)的侧端面的方式形成覆盖留下的叠层膜(14)的遮蔽无机膜(15)，完成密封膜(16)的步骤。

主权项

1.一种有机EL元件密封膜的形成方法，在形成有多个有机EL元件的基板上，以覆盖与所述有机EL元件对应的区域的方式形成叠层有无机膜和有机膜的构造的密封膜，所述有机EL元件密封膜的形成方法的特征在于，包括：在所述基板的整个面将所述无机膜和所述有机膜交替一次以上地成膜而形成叠层膜的步骤；和在形成所述叠层膜之后，通过干蚀刻将所述叠层膜的与各个所述有机EL元件对应的区域以外的部分除去，形成覆盖所述有机EL元件的上方和侧方的密封膜的步骤。