[发明专利]用于流体供应容器的终点监测和控制装置及流体供应装置有效
申请号: | 201510518383.6 | 申请日: | 2011-06-18 |
公开(公告)号: | CN105047591B | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | J·D·斯威尼;A·M·阿维拉;M·J·沃德延斯基;J·R·德普雷斯;T·H·鲍姆 | 申请(专利权)人: | 恩特格里斯公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人: | 齐杨 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于确定流体供应容器的终点的装置和方法,其中当建立流体流动时采用一个静态流动限制设备和一个选择性可致动阀元件,控制流体流动通过位于所述流体供应容器的内部容积中的流动通道。终点确定可用于终止来自所述流体供应容器的流体供应和/或从一个流体耗尽供应容器切换至一个新容器,以继续或更新流体供应操作。所述装置和方法适用于与例如离子植入器的流体利用装置一同使用。 | ||
搜索关键词: | 用于 流体 供应 容器 终点 监测 控制 装置 | ||
【主权项】:
一种用于流体供应容器的终点监测和控制装置,在该流体供应容器中设置有相互平行布置的一个阵列的毛细管,在容器的流体流动路径中包括真空致动分配止回阀和排出导管,所述容器包括阀头,排出导管向所述阀头输送流体,所述阀头包含一个在完全打开和完全闭合阀的位置之间可转移的阀元件和一个用于从所述容器分配流体的排出口,使得容器分配操作中的流体通过容器中的流动路径流经所述阵列的毛细管、真空致动分配止回阀和排出导管流至阀头、流至排出口,该终点监测和控制装置包括:一个监测单元,该监测单元适于监测所述流体供应容器的至少一个特性或从该流体供应容器供应的流体的至少一个特性,并产生一个关于这种特性的输出信号,以及一个处理器单元,该处理器单元布置为接收监测单元的输出信号,并在流体供应容器或从该流体供应容器供应的流体的终点条件下,响应地产生一个指示终点条件的输出控制信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造