[发明专利]一种铜锌锡硫吸收层薄膜的化学合成方法有效
申请号: | 201510521601.1 | 申请日: | 2015-08-24 |
公开(公告)号: | CN105226131B | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 杨盼;赵晓冲;杨蕊竹;杨锁龙;杨瑞龙 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院材料研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙)51239 | 代理人: | 刘华平 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种铜锌锡硫吸收层薄膜的化学合成方法,包括(S10)将铜源、锌源、锡源和硫源采用水热法制备Cu2ZnSnS4纳米晶;(S20)对制备的Cu2ZnSnS4纳米晶进行离心提纯处理;(S30)将提纯后的Cu2ZnSnS4纳米晶均匀分散在有机溶剂里,丝网印刷成膜后低温烧结,制得预制薄膜;(S40)对步骤(S30)获得的预制薄膜进行后硫化处理,获得Cu2ZnSnS4吸收层薄膜。本发明制备的Cu2ZnSnS4吸收层薄膜成分均匀,杂质较少,适用于薄膜太阳能电池,作为Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池的吸收层,能有效改善电池的电光性能,并且该方法操作简单、设备简易、过程可控,适用于Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池的研发和中小型生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜锌锡硫 吸收 薄膜 化学合成 方法 | ||
【主权项】:
一种铜锌锡硫吸收层薄膜的化学合成方法,其特征在于,包括以下步骤:(S10)将铜源、锌源、锡源和硫源采用水热法制备Cu2ZnSnS4纳米晶:(S11)选择铜、锌、锡的硫酸盐、硝酸盐或氯化物作为铜源、锌源和锡源,硫脲作为硫源,按摩尔比例为2:1:1:4选取铜源、锌源、锡源和硫源混合均匀后,将混合物作为溶质溶于特定溶剂中配制成混合溶液,其中特定溶剂与溶质的质量比为10±0.5:1;(S12)对上述制得的混合溶液进行超声分散和超声破碎,直到溶质完全溶解在溶剂中;(S13)将步骤(S12)制得的溶液转移至水热釜内进行水热反应,其填充率为50~90%,加热温度为374~628℃,反应时间为1~42h,制得Cu2ZnSnS4纳米晶;(S20)对制备的Cu2ZnSnS4纳米晶进行离心提纯处理;(S30)将提纯后的Cu2ZnSnS4纳米晶均匀分散在有机溶剂里,丝网印刷成膜后低温烧结,制得预制薄膜;其中,低温烧结的温度为100~250℃,烧结时间为2~10min,重复1~10次,制得的预制薄膜厚度为0.1 ~50μm;(S40)对步骤(S30)获得的预制薄膜进行后硫化处理:(S41)将沉积了预制薄膜的衬底在H2S气氛下加热至450~600℃,并保温0.5~3h;(S42)以10~30℃/min的速度降温至衬底200~300℃,停止通入H2S气;(S43)停止加热,待衬底冷却至室温后取出,获得Cu2ZnSnS4吸收层薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院材料研究所,未经中国工程物理研究院材料研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510521601.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的