[发明专利]抗反射结构及其制造方法有效
| 申请号： | 201510522305.3 | 申请日： | 2015-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN106291778B | 公开（公告）日： | 2018-03-13 |
| 发明（设计）人： | 游胜闵;孙文檠 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 孙梵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种抗反射结构，其包括基板以及渐变膜。渐变膜具有金属掺杂的氟氧化硅且配置于基板上。渐变膜的硅金属原子比自渐变膜的表面往基板逐渐降低。渐变膜的硅金属原子比为大于约11至小于约101。另提出一种抗反射结构的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抗反射结构，其特征在于包括：基板；以及渐变膜，其具有金属掺杂的氟氧化硅且配置于所述基板上，其中所述渐变膜的硅：金属原子比自所述渐变膜的表面往所述基板逐渐降低，且所述渐变膜的硅：金属原子比为大于1：1至小于10：1。
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