[发明专利]一种高分子真空涂覆设备有效
| 申请号： | 201510522803.8 | 申请日： | 2015-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN105039935A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 杨晓 | 申请（专利权）人： | 深圳市星火辉煌系统工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/44 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 任哲夫 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市盐田*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高分子真空涂覆设备，包括通过管路顺次连通的升华炉、裂解炉和沉积腔室，所述升华炉与裂解炉之间设置有气体流量调节阀；所述沉积腔室内设置有温度控制装置。通过调节所述气体流量调节阀开口的大小而控制了原料升华气体流量，该阀可即时、准确的控制腔室压力，并且当出现意外情况时，可关闭该阀，阻止升华气体进入沉积腔室。所述温度控制装置可使沉积腔室内温度控制在20℃～120℃，可以满足多种高分子膜的制备条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分子 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种高分子真空涂覆设备，包括通过管路顺次连通的升华炉、裂解炉和沉积腔室，其特征在于，所述升华炉与裂解炉之间设置有气体流量调节阀；所述沉积腔室内设置有温度控制装置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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