[发明专利]一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示面板在审
申请号: | 201510524296.1 | 申请日: | 2015-08-24 |
公开(公告)号: | CN105140296A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 刘翔 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L27/12 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示面板,其中,薄膜晶体管,包括:衬底基板,衬底基板上的有源层、有源层上的源漏电极,还包括:设置在所述源漏电极上的氧化保护层;贯通所述氧化保护层的开口,所述开口对应所述源漏电极之间的有源层区域。可以避免漏电极被氧化,从而提升薄膜晶体管的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜晶体管 制备 方法 阵列 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,包括:形成所述薄膜晶体管的有源层;形成所述薄膜晶体管的源漏电极层薄膜;形成所述薄膜晶体管的氧化保护层薄膜;形成所述源漏电极层薄膜对应所述有源层的沟道区域的第一开口;形成所述氧化保护层薄膜对应所述有源层的沟道区域的第二开口;所述第一开口和所述第二开口是通过一次构图工艺形成的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510524296.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类