[发明专利]单个纳米颗粒粒径的测量系统有效

专利信息
申请号: 201510529595.4 申请日: 2015-08-26
公开(公告)号: CN105115865B 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 白本锋;肖晓飞 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N15/02 分类号: G01N15/02
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人: 王赛
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种单个纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源,一暗场聚光器模组,一载物台,一物镜,一凸透镜,一CCD及其控制器,一数据线以及一显示及处理单元依次间隔设置,其中,所述光源发出的单色光经过暗场聚光器模组整形后成为中空光锥,照射到载物台上并产生散射光,散射光经过物镜,凸透镜,最终在CCD及其控制器上成像,并通过数据线传输给显示及处理单元。 1
搜索关键词: 凸透镜 纳米颗粒粒径 测量系统 处理单元 控制器 聚光器 散射光 数据线 暗场 模组 物镜 光源 间隔设置 单色光 载物台 整形 中空 光锥 载物 成像 照射 传输
【主权项】:
1.一种单个纳米颗粒粒径的测量系统,包括一光源,一暗场聚光器模组,一载物台,一物镜,一凸透镜,一CCD及其控制器,一数据线以及一显示及处理单元依次间隔设置,其特征在于,所述光源发出的单色光经过暗场聚光器模组整形后成为中空光锥,照射到载物台上并产生散射光,散射光经过物镜,凸透镜,最终在CCD及其控制器上成像,并通过数据线传输给显示及处理单元,所述显示及处理单元用于对图像进行处理,得到每个纳米颗粒对应的散射光斑的强度信息,根据显示及处理单元中的数据库得到暗场显微图像中对应于每个散射光斑的粒径。

2.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述光源出射的光为单色光。

3.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述暗场聚光器模组包括一光阑及一聚光镜沿从光源出射的光路依次设置。

4.如权利要求3所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述光阑为直径为21mm的圆形铜片,所述聚光镜的数值孔径为0.9。

5.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述载物台包括一基板以承载纳米颗粒样品。

6.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述物镜的放大率为100倍,数值孔径为0.8。

7.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述凸透镜将物镜收集到的纳米颗粒的散射光成像在CCD及其控制器上,得到纳米颗粒的散射光斑的暗场显微图像。

8.如权利要求1所述的单个纳米颗粒粒径的测量系统,其特征在于,所述暗场聚光器模组为一暗场聚光器,所述的暗场聚光器为抛物面聚光镜、心形聚光镜、同心球面聚光镜中的一种。

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