[发明专利]一种画眉修眉辅助工具及其方法有效

专利信息
申请号: 201510531877.8 申请日: 2015-08-26
公开(公告)号: CN105054566B 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 王晶;孙世华;吴欣 申请(专利权)人: 北京思湃科技有限公司
主分类号: A45D44/22 分类号: A45D44/22
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 郝瑞刚
地址: 100083 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种画眉修眉辅助工具,该画眉修眉辅助工具,包括脸型卡和修画眉模板;修画眉模板由薄板制成,中间设置有眉毛形状的镂空;修画眉模板的一侧面通过静电吸附或不粘胶临时粘贴在所述脸型卡上,另一侧面设置有用于将所述修画眉模板粘贴在脸部眉骨上的粘胶;脸型卡上对称设置有用于所述修画眉模板定位的定位辅助线和定位参照点,修画眉模板上设置有用于辅助定位的校准线和校准点。本发明的修画眉辅助工具结构简单,使用方便,能够有效保证画出的眉形左右对称,不高不低,并且修画眉过程快速准确。
搜索关键词: 一种 画眉 修眉 辅助工具 及其 方法
【主权项】:
1.一种画眉修眉辅助工具,其特征在于,其包括脸型卡和修画眉模板;修画眉模板由薄板制成,中间设置有眉毛形状的镂空;修画眉模板的一侧面通过静电吸附或不粘胶临时粘贴在所述脸型卡上,另一侧面设置有用于将所述修画眉模板粘贴在脸部眉骨上的粘胶;脸型卡上对称设置有用于所述修画眉模板定位的定位辅助线和定位参照点,修画眉模板上设置有用于辅助定位的校准线和校准点;修画眉模板粘贴在脸型卡上,修画眉模板上的校准线和校准点分别与脸型卡上选定的定位辅助线和定位参照点重合;所述定位辅助线具体包括眉毛水平辅助线、眼睛水平辅助线、垂直辅助线、眉毛轮廓示意线、眼睛轮廓示意线,以及瞳距标示线;所述瞳距标示线的范围为55‑75mm,每隔5mm给出一组标示;所述修画眉模板就其切面而言依次包括静电吸附层、贴片层和粘胶层;所述脸型卡在粘贴所述修画眉模板的一侧设置有静电吸附薄膜;所述静电吸附层和所述静电吸附薄膜由静电吸附片材制成,表面光滑;通过静电吸附层和静电吸附薄膜之间的相互吸附,修画眉模板静电吸附在所述脸型卡上。
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