[发明专利]一种化学场效应晶体管气敏传感器及其制造方法有效
申请号: | 201510531987.4 | 申请日: | 2015-08-27 |
公开(公告)号: | CN105699463B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 索武生 | 申请(专利权)人: | 索武生 |
主分类号: | G01N27/414 | 分类号: | G01N27/414 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 400060*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明涉及一种化学场效应晶体管气敏传感器及其制造方法,所述气敏传感器具有至少一个场效应晶体管,其包括:半导体衬底;形成在半导体衬底上的源区、漏区;形成在源区与漏区之间的衬底表面上的沟道区;形成在沟道区上的绝缘层;以及形成在绝缘层上的敏感层,其作为栅极。以及将相同和/或不同栅区氧化层面积、形状、沟道宽长比和/或栅氧化层厚度的多个场效应晶体管组成传感器阵列。与普通MOSFET化学场效应管相比,本发明中的化学场效应管将金属或多晶硅栅极去掉,通过器件的开关状态变化分辨气体种类并测量气体浓度,具有灵敏度高、制造成本低等优点。 | ||
搜索关键词: | 化学场 气敏传感器 绝缘层 场效应晶体管 效应晶体管 沟道区 效应管 衬底 漏区 源区 半导体 开关状态变化 传感器阵列 多晶硅栅极 沟道宽长比 衬底表面 栅氧化层 制造成本 灵敏度 敏感层 氧化层 栅区 分辨 制造 测量 金属 | ||
【主权项】:
一种化学场效应晶体管气敏传感器,具有至少一个场效应晶体管,其包括:半导体衬底;形成在半导体衬底上的源区、漏区;形成在源区与漏区之间的衬底表面上的沟道区;形成在沟道区上的绝缘层;以及形成在绝缘层上的敏感层,其作为栅极;其特征是,将相同和/或不同栅区面积、形状、沟道宽长比和/或栅区之下的绝缘层厚度的多个场效应晶体管组成传感器阵列;气体富集器单元制作于基板之上,基板是绝缘材料或导体材料,气体富集器单元由导气槽、导气孔组成,封装时导气孔与传感器阵列的栅膜区相连形成气室,传感器阵列烧结或者粘结在基板上;所述传感器阵列中,漏区与源区分别呈矩阵排列,每四个相邻漏区连线构成的矩形的中心位置设置一个源区,每四个相邻源区连线构成的矩形的中心位置设置一个漏区;每一列或行的源区分别通过金属引线电性连接构成源极列或行;每一列或行的漏区也分别通过金属引线电性连接构成漏极列或行;以及在相邻的源极列或行与漏极列或行之间沟道区上形成栅膜区。
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