[发明专利]抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法有效
| 申请号： | 201510532601.1 | 申请日： | 2015-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN105382677B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 山口都章;小畠严贵;水野稔夫;宫崎充;丰村直树;井上拓也 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;B24B37/20;B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 梅高强;刘煜 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供抛光处理组件、基板处理装置及抛光垫清洗方法。抛光处理组件具有：抛光台，该抛光台用于设置处理对象物；抛光头，该抛光头用于保持抛光垫，该抛光垫用于对所述处理对象物进行规定的处理；抛光臂，该抛光臂对所述抛光头进行支承并摆动；修整件，该修整件用于对所述抛光垫进行修整；以及清洗机构，该清洗机构配置在所述抛光台与所述修整件之间，用于对所述抛光垫进行清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 处理 组件 装置 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光处理组件，其特征在于，包含：抛光台，基板被安装在所述抛光台上；抛光头，所述抛光头被构造成保持抛光垫，所述抛光垫用于对所述基板进行预定的处理；抛光臂，所述抛光臂对所述抛光头进行支承并摆动；修整件，所述修整件用于对所述抛光垫进行修整；清洗机构，所述清洗机构配置于所述抛光台与所述修整件之间，所述清洗机构用于清洗所述抛光垫，所述修整件和所述清洗机构关于所述抛光臂的摆动中心，配置于与所述抛光台相同的半径位置，所述抛光台、所述修整件以及所述清洗机构配置为与所述抛光垫相对，其中，槽被形成在所述抛光垫的表面上，和所述清洗机构包括喷雾器，所述喷雾器被构造成供给高压清洗流体，以去除所述槽内的堆积物。
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