[发明专利]一种硅酸镓铌钙压电晶体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510534644.3 申请日: 2015-08-27
公开(公告)号: CN106480501A 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 蒋博翰;郑燕青;涂小牛;熊开南;李亚乔;曹硕梁;施尔畏 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所;上海硅酸盐研究所中试基地
主分类号: C30B29/34 分类号: C30B29/34;C30B15/08
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种硅酸镓铌钙压电晶体及其制备方法,制备方法采用微下拉法生长晶体,包括以下步骤:(1)接种:将晶体生长原料填入坩埚装炉,加热至熔点以上5~30℃,待有少量熔体流下时,以0.05~3mm/分钟的速率下拉籽晶进行接种,并控制下拉高度为6~10mm,接种直径为4~8mm;(2)等径生长:使炉内温度在±8℃范围内变化,从而控制晶体直径在5~8mm,并生长到所需要的长度;(3)收尾:晶体直径自然收细,待坩埚中再无熔体流下,晶体拉脱时生长结束,并冷却至室温,获得硅酸镓铌钙压电晶体。本发明的方法是一种快速低成本生长CNGS晶体的方法,解决了CNGS晶体结晶性能不佳,生长困难的问题。
搜索关键词: 一种 硅酸 镓铌钙 压电 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种硅酸镓铌钙压电晶体的制备方法,其特征在于,采用微下拉法生长晶体,包括以下步骤:(1)接种:将晶体生长原料填入坩埚装炉,加热至熔点以上5~30℃,待有少量熔体流下时,以0.05~3mm/分钟的速率下拉籽晶进行接种,并控制下拉高度为6~10mm,接种直径为4~8mm;(2)等径生长:使炉内温度在±8℃范围内变化,从而控制晶体直径在5~8mm,并生长到所需要的长度;(3)收尾:晶体直径自然收细,待坩埚中再无熔体流下,晶体拉脱时生长结束,并冷却至室温,获得硅酸镓铌钙压电晶体。
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