[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201510536237.6 | 申请日: | 2015-08-27 |
公开(公告)号: | CN105990402B | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 尾原亮一;野田隆夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 根据一实施方式,半导体装置具备:半导体基板,具有第1面和第2面;元件区域,设于半导体基板;末端区域,设于元件区域的周围的半导体基板,具有设于半导体基板的第1面的第1导电型的第1半导体区域、设在第1半导体区域与第2面之间的第2导电型的第2半导体区域、设在第1半导体区域上的第1绝缘膜、和设在第1半导体区域上且处于第1绝缘膜之间的第2绝缘膜;第1电极,设在元件区域的第1面上,与第1半导体区域电连接;以及第2电极,设在半导体基板的第2面上。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具备:/n半导体基板,具有第1面和第2面;/n元件区域,设置于上述半导体基板;/n末端区域,设置于上述元件区域的周围的上述半导体基板,具有设置于上述半导体基板的第1面的第1导电型的第1半导体区域、设置于上述第1半导体区域与上述第2面之间的第2导电型的第2半导体区域、设置在上述第1半导体区域上的第1绝缘膜、和设置在上述第1半导体区域上且处于上述第1绝缘膜之间的第2绝缘膜;/n第1电极,设置在上述元件区域的第1面上,与上述第1半导体区域电连接;以及/n第2电极,设置在上述半导体基板的上述第2面上,/n上述第1绝缘膜是硅氧化膜,上述第2绝缘膜是有机膜,/n上述第1绝缘膜与上述第2绝缘膜直接接触,/n上述第2绝缘膜与上述第1半导体区域直接接触,/n与上述第1半导体区域接触的部分的上述第2绝缘膜是将上述元件区域包围的环状。/n
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