[发明专利]化学除钻污高锰酸钾再生方法在审

专利信息
申请号: 201510537857.1 申请日: 2015-08-28
公开(公告)号: CN105132937A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 刘波;谢海山 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;杭州方正速能科技有限公司
主分类号: C25B1/00 分类号: C25B1/00;C25B11/02
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 周美华
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种电路板沉铜工序中化学除钻污高锰酸钾的再生方法,在高锰酸钾槽内设置再生装置,所述再生装置包括阳极(1)和阴极(2),所述阳极(1)为筒形,所述阴极(2)设置于所述阳极(1)内侧,所述阳极(1)与所述阴极(2)的有效导电面积比为15-25:1,对所述再生装置通电,使锰酸钾电解为高锰酸钾。该再生方法利用电解技术促使高锰酸钾循环再生,可以将副产物+6价锰通过电解转换为所需的+7价锰,不但使高锰酸钾循环利用,同时达到减少副产物(锰酸钾)的目的,既满足生产要求又降低了成本。
搜索关键词: 化学 高锰酸钾 再生 方法
【主权项】:
一种化学除钻污高锰酸钾的再生方法,其特征在于:将再生装置置于储有高锰酸钾除钻污液中,所述再生装置包括阳极(1)和阴极(2),所述阳极(1)为筒形,所述阴极(2)设置于所述阳极(1)内侧,所述阳极(1)与所述阴极(2)的有效导电面积比为15‑25:1;对所述再生装置通电,以将所述高锰酸钾除钻污液中的锰酸钾电解为高锰酸钾。
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