[发明专利]一种合成革用水性消光表面处理剂的制备方法

摘要

本发明公开了一种合成革用水性消光表面处理剂的制备方法，其制备方法是在高速剪切的水性聚氨酯分散体中分别滴加二元胺和二异氰酸酯，利用二元胺与二异氰酸酯的高反应活性在水性聚氨酯分散体中生成粒径为5~10微米的高熔点、高硬度的氨基甲酸酯消光颗粒，然后加入流平剂和增稠剂，分散均匀，调节粘度1000~2000mPa.S‑1，即得合成革用水性消光表面处理剂，由于氨基甲酸酯消光颗粒聚氨酯体系折光度相近，且消光膜中不存在传统二氧化硅与有机高分子的有机‑无机界面，所以该水性消光表面处理剂具有高通透性，无拉白等特点。

主权项

一种合成革用水性消光表面处理剂的制备方法，其特征在于其制备方法如下：在装有电动剪切机、恒压漏斗的分散釜中，加入水性聚氨酯分散体100份，其水性聚氨酯分散体有效固含量为20%，聚乙烯醇1份，分散剂1份，乳化剂2份，在室温25℃下，剪切速率为1300r/min，通过恒压漏斗分别滴加4.55份的4,4'‑二环己基甲烷二异氰酸酯HMDI和2.96份的异氟尔酮二胺IPDA，4,4'‑二环己基甲烷二异氰酸酯HMDI和异氟尔酮二胺IPDA均先用20份丙酮稀释，1小时滴加完全，继续搅拌1小时，减压蒸馏脱除丙酮，然后加入1%的有机硅流平剂、2%缔合型聚氨酯增稠剂，调节粘度1000~2000mPa.S‑1，继续分散1小时，用120目滤布过滤， 其中HMDI与IPDA的滴加速率是匀速点加，且单位时间内滴加的物质量是相等的，滴加完所述的IPDA与所述的HMDI后，HMDI与IPDA生成的微粒的粒径为5~10微米，并且HMDI与所述的IPDA生成的高熔点、高硬度消光的微粒与水性聚氨酯有效固体之间的质量比为0.25‑0.5，得合成革用水性消光表面处理剂。