[发明专利]一种类金刚石碳微悬梁臂及其制备方法有效
申请号: | 201510541591.8 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN105060236B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 张忠祥 | 申请(专利权)人: | 深圳力策科技有限公司 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;B81C1/00;C23C14/35;C23C14/16 |
代理公司: | 深圳市中科创为专利代理有限公司44384 | 代理人: | 高早红,谢亮 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种类金刚石碳微悬梁臂及其制备方法,类金刚石碳微悬梁臂包括硅衬底、在硅衬底上制作的过渡层、以及通过高能量脉冲式磁控溅射方法制作并覆盖在过渡层表面的DLC薄膜。通过利用高能量脉冲式磁控溅射技术制备而成的DLC薄膜层,通过微加工工艺制作成振荡频率较高、工艺简单、具有良好抗腐蚀能力的微悬梁臂结构。本发明的DLC悬梁臂结构以硅作为衬底材料,通过直流或者脉冲电源,在硅晶圆衬底的表面制作过渡层,再利用高能量脉冲式磁控溅射技术制备而成的DLC薄膜层,本发明结合压电、静电等驱动结构后,可用作MEMS执行器。 | ||
搜索关键词: | 种类 金刚石 悬梁 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种类金刚石碳微悬梁臂,其特征在于:包括硅衬底、在硅衬底上制作的过渡层、以及通过高能量脉冲式磁控溅射方法制作并覆盖在过渡层表面的DLC薄膜层;过渡层包括设置在硅衬底上的第一过渡层和设置第一过渡层上的第二过渡层,其中,硅衬底为硅晶圆衬底,第一过渡层为金属过渡层,第二过渡层为金属碳化物过渡层;并且,硅晶圆衬底采用单面抛光的硅晶圆。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳力策科技有限公司,未经深圳力策科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510541591.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。