[发明专利]一种快恢复二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201510548524.9 申请日: 2015-08-31
公开(公告)号: CN106486527A 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 滕渊;朱阳军;卢烁今;田晓丽 申请(专利权)人: 上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/329;H01L29/861
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 王宝筠
地址: 200120 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种FRD及其制作方法,该FRD包括衬底,所述衬底具有漂移区;设置在衬底上表面内的主结;设置在衬底上表内的场限环以及截止环,场限环包围所述主结,截止环包围所述场限环;设置在衬底下表面内的阴极区;设置在漂移区内的载流子低寿命薄层;其中,所述漂移区包括主结区以及终端区;主结设置在所述主结区内,所述场限环以及截止环设置在所述终端区内;所述载流子低寿命薄层位于所述场限环以及截止环的下方,且位于所述阴极区的上方。所述FRD通过所述载流子低寿命薄层可以降低主结边缘处的电流密度,便于FRD的反向恢复,防止了主结发生动态雪崩击穿,提高了FRD的安全工作区范围。所述FRD制作方法简单,制作成本低。
搜索关键词: 一种 恢复 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
一种FRD,其特征在于,包括:衬底,所述衬底具有漂移区;设置在所述衬底上表面内的主结;设置在所述衬底上表内的场限环以及截止环,所述场限环包围所述主结,所述截止环包围所述场限环;设置在所述衬底下表面内的阴极区;设置在所述漂移区内的载流子低寿命薄层;其中,所述漂移区包括主结区以及终端区;所述主结设置在所述主结区内,所述场限环以及截止环设置在所述终端区内;所述载流子低寿命薄层位于所述场限环以及截止环的下方,且位于所述阴极区的上方。
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