[发明专利]一种氮化物发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201510549914.8 | 申请日: | 2015-09-01 |
公开(公告)号: | CN105140360B | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 张东炎;王笃祥;叶大千;刘明英;舒立明;王良均 | 申请(专利权)人: | 天津三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供一种氮化物发光二极管及其制备方法,包含衬底,低温缓冲层、非掺氮化物层、n型氮化物层、多量子阱区、高空穴浓度电子阻挡层、p型氮化物层、p型接触层及电极。高空穴浓度电子阻挡层通过在第一掺杂层中交替通入In源和Mg源的方法来提升第二掺杂层中Mg的并入效率,从而提升电子阻挡层中的空穴浓度,减小材料电阻,降低工作电压,提升器件的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化物 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种氮化物发光二极管,包括:一衬底;一低温缓冲层,位于衬底之上;一非掺氮化物层,该非掺氮化物层位于低温缓冲层之上;一n型氮化物层,该n型氮化物层位于非掺氮化物层之上,该n型氮化物层上制作有n型电极;一多量子阱区,该多量子阱区位于n型氮化物层之上;一高空穴浓度电子阻挡层,该高空穴浓度电子阻挡层位于多量子阱区之上;一p型氮化物层,该p型氮化物层位于高空穴浓度电子阻挡层之上;一p型接触层,该p型接触层位于p型氮化物层之上,该p型接触层上形成有p型电极;其特征在于:所述高空穴浓度电子阻挡层包含第一掺杂层及第二掺杂层,在第一掺杂层中采用交替通入In源及Mg掺杂源的方式,使得第一掺杂层、第二掺杂层具有较高的掺杂浓度,所述交替通入In源及Mg掺杂源的方式具体为先通入Mg掺杂源,持续时间为t1,接着关闭Mg掺杂源,通入In源。
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