[发明专利]半导体工艺流程控制方法及装置

摘要

本发明实施例提供一种半导体工艺流程控制方法及装置。该方法包括获取半导体各个工艺步骤对应的工艺标准、检测标准和质量管理标准；若工艺标准、检测标准和质量管理标准不相等，则通知工艺人员修改工艺标准、通知测试人员修改检测标准和/或通知品质管控人员修改质量管理标准。本发明实施例通过计算机获取半导体各个工艺步骤对应的工艺标准、检测标准和质量管理标准，并判断工艺标准、检测标准和质量管理标准是否相等，当工艺标准、检测标准和质量管理标准不等时，通知工艺人员修改工艺标准、通知测试人员修改检测标准和/或通知品质管控人员修改质量管理标准，完善工艺设计,以免生产过程中对产品出现误判,而造成过多异常处理。

主权项

一种半导体工艺流程控制方法，其特征在于，包括：获取半导体各个工艺步骤对应的工艺标准、检测标准和质量管理标准；判断所述工艺标准、所述检测标准和所述质量管理标准是否相等；若所述工艺标准、所述检测标准和所述质量管理标准不相等，则通知工艺人员修改所述工艺标准、通知测试人员修改所述检测标准和/或通知品质管控人员修改所述质量管理标准。