[发明专利]一种化学气相沉积炉以及一种化学气相沉积系统在审
| 申请号： | 201510552153.1 | 申请日： | 2015-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN105039931A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 朱刘;于金凤 | 申请（专利权）人： | 清远先导材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 511517 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学气相沉积炉，包括：用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置；设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置；设置于所述沉积装置上方的收料装置，所述收料装置包括一个收料盒、设置于所述收料盒顶部的收料盒盖以及开设于所述收料盒盖处的出气筒，所述收料盒为一个内部贯通的腔室，所述出气筒的下端与所述收料盒的腔室连通。本发明中未反应完的气体以及未来的及沉积的化合物颗粒直接进入到收料盒内，尽可能的进入到与化学气相沉积炉相连的粉尘收集系统，降低了整个化学气相沉积炉的承重，同时减少反应生成的粉尘停留到沉积装置的量，降低系统堵塞的几率，相应的增加产品的厚度，提高了产品的转化率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 以及 系统 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积炉，其特征在于，包括：用于盛放固体原料并向所述沉积室供送气态原料的原料供给装置(1)；设置于所述原料供给装置上方的两个及以上的沉积装置(2)；设置于所述沉积装置上方的收料装置，所述收料装置包括一个收料盒(3)、设置于所述收料盒(3)顶部的收料盒盖(12)以及开设于所述收料盒盖(12)处的出气筒(5)，所述收料盒(3)为一个内部贯通的腔室，所述出气筒(5)的下端与所述收料盒(3)的腔室连通。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
