[发明专利]一种清洗液喷嘴在审
| 申请号： | 201510556218.X | 申请日： | 2015-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN106486392A | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 任海;郎丰伟 | 申请（专利权）人： | 四川虹视显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10 |
| 代理公司： | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227 | 代理人： | 王伟 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗液喷嘴，包括喷嘴管、喷射口和设置在喷嘴管内部的涡流形成工具；所述喷射口设置在喷嘴管的下端。本发明的有益效果在半导体基板或平板显示器件的基板等清洗对象上，起喷射清洗液的作用的清洗液喷嘴内，设置涡流形成工具，使清洗液喷嘴内的清洗液里形成涡流，将其喷射到清洗对象物上，能使清洗范围更宽广，通过涡流的物理作用，能有效除掉清洗对象物上的异物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种清洗液喷嘴，其特征在于：包括喷嘴管(201)、喷射口(202)和设置在喷嘴管(201)内部的涡流形成工具(203)；所述喷射口(202)设置在喷嘴管(201)的下端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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