[发明专利]光学邻近效应修正方法和系统有效
申请号: | 201510558089.8 | 申请日: | 2015-09-02 |
公开(公告)号: | CN106483758B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 邓云鹏 |
地址: | 214028 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种光学邻近效应修正方法,线段的目标位置点的设置方式不再是固定的,而是随着图形变化的,通常选取该线段对应的模拟图形的曲线端点作为目标位置点的参考位置。该曲线端点可以按以下方法判断:若线段在线段的垂直方向平移,线段与模拟图形的相切点即为曲线端点,此时该曲线端点与目标位置点重合。对于该线段而言,通常在该曲线端点对应位置的EPE最大,根据EPE再进行图像修正,可以有效减少修正次数,降低修正不足或修正过量的程度,使模拟结果与目标值更加匹配,提高修正效率和修正精度。还提供一种光学邻近效应修正系统。 | ||
搜索关键词: | 光学 邻近 效应 修正 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种光学邻近效应修正方法,应用于半导体制造工艺,其特征在于,包括:分割步骤:对设计图形的边缘进行分割以形成多个线段;设置步骤:在所述线段设置目标位置点;若所述线段在与所述线段垂直的方向平移,所述线段与模拟图形的相切点则会与所述目标位置点重合;计算步骤:计算所述目标位置点的边缘位置差异;修正步骤:根据所述边缘位置差异对所述设计图形进行修正。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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