[发明专利]光学邻近效应修正方法和系统有效

专利信息
申请号: 201510558089.8 申请日: 2015-09-02
公开(公告)号: CN106483758B 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 邓云鹏
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种光学邻近效应修正方法,线段的目标位置点的设置方式不再是固定的,而是随着图形变化的,通常选取该线段对应的模拟图形的曲线端点作为目标位置点的参考位置。该曲线端点可以按以下方法判断:若线段在线段的垂直方向平移,线段与模拟图形的相切点即为曲线端点,此时该曲线端点与目标位置点重合。对于该线段而言,通常在该曲线端点对应位置的EPE最大,根据EPE再进行图像修正,可以有效减少修正次数,降低修正不足或修正过量的程度,使模拟结果与目标值更加匹配,提高修正效率和修正精度。还提供一种光学邻近效应修正系统。
搜索关键词: 光学 邻近 效应 修正 方法 系统
【主权项】:
1.一种光学邻近效应修正方法,应用于半导体制造工艺,其特征在于,包括:分割步骤:对设计图形的边缘进行分割以形成多个线段;设置步骤:在所述线段设置目标位置点;若所述线段在与所述线段垂直的方向平移,所述线段与模拟图形的相切点则会与所述目标位置点重合;计算步骤:计算所述目标位置点的边缘位置差异;修正步骤:根据所述边缘位置差异对所述设计图形进行修正。
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